Ликсутов: «Микрон» испытает российский фоторезист 90 нм

Общество

46 Просмотры 0

Ликсутов: «Микрон» испытает российский фоторезист 90 нм
фото: пресс-служба ДИПП

тестовый баннер под заглавное изображение

Резидент ОЭЗ «Микрон» испытает отечественный фоторезист 90 нм от НИИМЭ, что снизит зависимость от импорта. В планах – полный переход на российские материалы. Подробности раскрыли заместитель Мэра Москвы по вопросам транспорта и промышленности Максим Ликсутов и руководитель Департамента инвестиционной и промышленной политики Анатолий Гарбузов.

40 из 60 столичных предприятий микроэлектроники — резиденты ОЭЗ «Технополис Москва». Они производят микросхемы, смарт-карты и RFID-продукцию, замещая импорт и развиваясь при поддержки города.

«Многие предприятия активно внедряют в производство отечественную электронную компонентную базу нового технического уровня. Так, резидент ОЭЗ столицы, являющийся одним из ведущих производителей микроэлектроники страны, успешно тестирует первый отечественный фоторезист для фотолитографических процессов с нормами 90 нм», – сообщил Максим Ликсутов.

Полимерный фоторезист - это ключевой материал для фотолитографии. Наносится на кремниевую подложку, при облучении формирует структуру микросхем. Российское производство ранее отсутствовало из-за неразвитости фотолитографического оборудования.

«Сегодня резидент ОЭЗ Москвы завод «Микрон» является единственным в России производителем микросхем с топологией 180-90 нанометров

Его чипы используются в банковских картах НСПК «Мир», загранпаспортах, водительских удостоверениях, транспортной карте «Тройка», школьной карте «Москвёнок»», – уточнил Анатолий Гарбузов.

Как Вы оцените?

0

ПРОГОЛОСОВАЛИ(0)

ПРОГОЛОСОВАЛИ: 0

Комментарии