
Компания-резидент ОЭЗ "Технополис Москва" разработала первый в стране фотолитограф с разрешением 350 нанометров. Подробности раскрыл в своем телеграм канале Мэр Москвы Сергей Собянин.
«Наша установка серьёзно отличается от зарубежных аналогов. Впервые в качестве излучения использовали не ртутную лампу, а твердотельный лазер — мощный и энергоэффективный, с высокой долговечностью и более узким спектром», — сообщил столичный градоначальник.
По сообщению ДИПП, на сегодняшний день менее 10 государств в мире обладают технологиями для производства такого оборудования для создания микросхем. Россия вошла в этот список, сделав значительный шаг к технологической независимости и развитию отечественной микроэлектроники. Разработка стала возможной благодаря сотрудничеству с белорусским предприятием, имеющим многолетний опыт в данной области.
«Наша компания завершила работы по созданию первой российской установки для проекционной литографии с топологией 350 нанометров в соответствии с госконтрактом. Проект реализован в партнерстве с белорусским заводом "Планар". В декабре 2024 после успешных испытаний оборудование было принято госкомиссией, которая документально подтвердила все заявленные технические характеристики
Комментарии